これまでの活動記録

主な活動内容

・科学技術調査

・技術情報の交換

・標準化等について

・研究会活動

  ・評価技術

  ・研究開発動向

・ナノリスク対策

・展示会活動

 

 

過去の例会(場所・講演内容)

第21~現在の例会

第11~20回の例会

第1~10回の例会

 

・第26回例会(平成30年6月14日)場所:大阪産業技術研究所 森之宮センター

講演1 ”各種電気炉と雰囲気熱処理の話題提供”

株式会社モトヤマ 酒井 了三 氏

講演2 ”プリンテッドエレクトロニクス標準化の状況報告”

次世代化学材料評価技術研究組合(CEREBA)アドバイザー

JEITAマテリアル小委員会副委員長 小田 正明 氏

講演3 ”高移動度有機トランジスタを用いた論理回路とフレキシブルセンサへの応用”

 大阪産業技術研究所 和泉センター 電子・機械システム研究部 宇野 真由美 氏

 

・第25回例会(平成30年2月13日)場所:東京大学工学部2号館

講演1”スーパーインクジェット”

SIJテクノロジ株式会社 村田 和広 氏

講演2”ナノテクノロジ研究開発と科学技術コミュニケーション”

産業技術総合研究所 関谷 瑞木 氏

講演3”グラフェンキャパシタ”

物質・材料研究機構 唐 捷 氏

 

・第24回例会(平成29年10月27日)場所:大阪産業技術研究所 森之宮センター

講演1”中堅・中小企業等における標準化の戦略的活用のために~新市場創造型標準化制度等紹介~”

(一財)日本規格協会 執行役員 内田 富雄 氏

講演2”アルコール還元法を用いた金属ナノワイヤ合成の現状と展望”

滋賀県立大学工学部材料科学科 バラチャンドラン ジャヤデワン 氏

講演3”プラズマCVD法による微粒子へのDLCコーティング技術”

株式会社ユーテック 代表取締役 本多 祐二 氏

 

・総会・第23回例会(平成29年6月22日)場所:大阪産業技術研究所 森之宮センター

新会員企業紹介

武蔵エンジニアリング株式会社

講演1”プリンテッド・エレクトロニクスの研究開発におけるニードル式マイクロディスペンサの活用”

大阪産業技術研究所 電子材料研究部 柏木 行康 氏

講演2”セルロースナノファイバー「レオクリスタ」の増粘・分散剤への応用”

第一工業製薬株式会社 レオクリスタ事業部 神野 和人 氏

 

・第22回例会(平成29年2月14日)場所:協立化学産業(株)

講演1”特殊印刷の技術紹介と今後の展開”

ナビタス株式会社 山際 寿 氏

講演2”マイクロサイズ粒子を利用した高耐熱接合プロセス”

大阪大学 接合科学研究所 西川 宏 氏

講演3”耐酸化性と焼結性に優れる銅ナノ粒子の開発”

協立化学産業株式会社 小山 優 様

 

・第21回例会(平成28年11月22日)場所:株式会社コムラテック

企業紹介 

株式会社フェクト

講演1”フラックス洗浄技術”

化研テック株式会社 神保 拓郎 氏

講演2”ナノリスクとマネジメント ~ナノリスクは何処に向かうのか~”

近畿大学 共同利用センター 山根 秀信 氏

コムラテック株式会社 会社紹介